2011年，晶洲率先在国内第一家推出第一代的背抛光刻蚀机，其拥有完全的自主知识产权，拥有多项发明专利与实用新型专利。
技术优势：
1.可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.1%-0.2%。
2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。
3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环�●！⒏偷幕泛挠贸杀尽�
4.专用抛光液，抛光效果好，易控制，产量大，成本低，废水易处理，节约废水处理成本。
5.背抛光技术与SE，背面钝化（AL2O3），背接触技术，两次印刷，MWT等主流技术可叠加，兼容性好，提升背面技术革新空间。
6.技术便于实现系统集成或�？榛奖憧突а≡裾蚋脑臁�
技术优势：
1.可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.1%-0.2%。
2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。
3.无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环�●！⒏偷幕泛挠贸杀尽�
4.专用抛光液，抛光效果好，易控制，产量大，成本低，废水易处理，节约废水处理成本。
5.背抛光技术与SE，背面钝化（AL2O3），背接触技术，两次印刷，MWT等主流技术可叠加，兼容性好，提升背面技术革新空间。
6.技术便于实现系统集成或�？榛奖憧突а≡裾蚋脑臁�
背抛光刻蚀清洗机
| 项目 | 说明 |
| 功能 | 去PSG+背抛光+刻蚀 |
| 适用对象 | 多晶/单晶硅片 |
| 硅片尺寸 | 156mm*156mm |
| 125mm*125mm | |
| 产能 | 125mm*125mm |
| 标准产能 3600cells/h | |
| 156mm*156mm | |
| 标准产能 3000cells/h | |
| 传输轨道 | 5 |
| 碎片率 | ≦0.05% |
| 速度范围 | 1.0~2.5m/min |
| 操作速度 | 1.8m/min |
| 主要材质 | PVDF, NaturePP, PEEK, PVC |
| 滚轮材质 | PP |
| 电力供应 | 65KW,3相交流电380V,50Hz |
| 纯水 | 2.5±0.5kgf/cm2 |
| 压缩空气/氮气 |
5±0.5kgf/cm2 |
